最新一期的ZEMAX光学设计标准成像培训于2017年5月15-17日在武汉成功举办。此期课程是南京光研第一次在武汉举办相关的课程培训,无论是在质量还是学习环境等都受到了学员的一致好评。光电工程师社区跟踪报道了本次培训。 (培训地点) 这次邀请了南京光研的年轻工程师李老师和冯老师为大家授课。在现场,每位学员都安装了最新版的ZEMAX OpticStudio 正版设计软件,全程上机操作练习,整个培训氛围轻松而又认真,老师不时与学员进行互动,通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。 (李老师在授课) (冯老师在授课) 课程第一天,李老师为大家详细地讲解了一些基础光学方面的知识,其中包括玻璃的属性,一阶光学,三阶光学,像差平衡,单透镜设计,初始优化方法,采样及参考点选择,默认评价函数与玻璃材料优化方法等重要的知识。第二天和第三天,冯老师讲解了很多的实例,其中包括扫描系统及折返系统实例,双高斯镜头MTF优化实例,焦镜头实例,变倍扩束镜实例,马赫曾德干涉仪实例等等,并带领大家进行了各种训练,培训的最后对相关问题进行了总结,为学员们进行了答疑。 (老师和学员进行讨论) 这次课程是专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置,通过本课程密集培训和练习互动后,学员能达到独立轻松设计光学系统,并能进行分析及优化和公差评估。培训结束后很多学员都反映效果很好。下一期ZEMAX光学设计标准成像培训将于2017年5月24-26日在深圳举办。 |





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